Баарыбызга белгилүү болгондой, вакуумдук каптоодо көбүнчө колдонулган ыкмалар вакуумдук транспирация жана ион чачыратуу болуп саналат.Көптөгөн чачыратуу каптоо менен транспирациялоочу каптаманын ортосунда кандай айырма барадамдар ушундай суроолор бар.Келгиле, сиз менен транспирациялык каптоо менен чачыранды жабуунун айырмасын бөлүшөлү
Вакуумдук транспирациялык пленка – 10-2Па кем эмес вакуумдук даражасы бар чөйрөдө каршылык жылытуу же электрон нуру жана лазердик снаряд аркылуу транспирациялануучу маалыматтарды белгиленген температурага чейин жылытуу, молекулалардын термикалык термелүү энергиясы же маалыматтардагы атомдор беттин байланыш энергиясынан ашат, ошондуктан көптөгөн молекулалар же атомдор транспирацияланып же көбөйүп, пленканы түзүү үчүн аларды түздөн-түз субстраттын үстүнө жайгаштырышат.Ион чачыратуу каптоо бутаны катод катары бомбалоо үчүн электр талаасынын таасири астында газ разрядынан пайда болгон оң иондордун жогорку каршылык кыймылын колдонот, ошентип бутадагы атомдор же молекулалар сыртка чыгып, капталган дайындаманын бетине жайгашат. керектүү тасма.
Вакуумдук транспирациялоонун эң көп колдонулган ыкмасы - каршылык жылытуу ыкмасы.Анын артыкчылыктары жылытуу булагынын жөнөкөй түзүлүшү, арзан баасы жана ыңгайлуу иштеши.Анын кемчиликтери, ал отко чыдамдуу металлдар жана жогорку температурага туруктуу медиа үчүн ылайыктуу эмес.Электрондук нур менен жылытуу жана лазердик жылытуу каршылык жылытуунун кемчиликтерин жеңе алат.Электрондук нур менен жылытууда фокусталган электрон нуру катмарланган маалыматтарды түз жылытуу үчүн колдонулат, ал эми электрондук нурдун кинетикалык энергиясы маалыматтарды транспирациялоо үчүн жылуулук энергиясына айланат.Лазердик жылытууда жылытуу булагы катары жогорку кубаттуулуктагы лазер колдонулат, бирок жогорку кубаттуулуктагы лазердин баасы жогору болгондуктан, аны аз сандагы илимий лабораторияларда гана колдонууга болот.
Чачыратуу жөндөмү вакуумдук транспирация жөндөмүнөн айырмаланат.Чачыратуу деп заряддуу бөлүкчөлөрдүн дененин бетине (максатына) кайра бомбалоосу, ошону менен катуу атомдор же молекулалар бетинен бөлүнүп чыгуучу кубулушту билдирет.Чыгарылган бөлүкчөлөрдүн көбү атомдук болуп саналат, алар көбүнчө чачыранды атомдор деп аталат.Буталарды аткылоо үчүн колдонулган чачылган бөлүкчөлөр электрондор, иондор же нейтралдуу бөлүкчөлөр болушу мүмкүн.Иондор электр талаасында керектүү кинетикалык энергияны алуу оңой болгондуктан, иондор көбүнчө бөлүкчөлөр катары тандалып алынат.
Чачыратуу процесси жаркыраган разрядга негизделген, башкача айтканда, чачыратуу иондору газ разрядынан келип чыгат.Ар кандай чачыратуу көндүмдөрүнүн жаркыраган разряддын ар кандай ыкмалары бар.DC диодду чачыратуу DC жаркыраган разрядды колдонот;Триодду чачыратуу – ысык катод тарабынан колдоого алынган жаркыраган разряд;RF чачыратуу RF жаркыраган разрядды колдонот;Магнетрондук чачыратуу – бул шакекчелүү магнит талаасы тарабынан башкарылуучу жаркыраган разряд.
Вакуумдук транспирация каптоо менен салыштырганда, чачыратуу каптоо көптөгөн артыкчылыктарга ээ.Эгерде кандайдыр бир зат чачыраса, айрыкча, жогорку эрүү температурасы жана буу басымы төмөн элементтер жана бирикмелер;чачылган пленка менен субстраттын ортосундагы адгезия жакшы;Жогорку пленка тыгыздыгы;пленканын калыңдыгын көзөмөлдөсө болот жана кайталануу жакшы.Кемчилиги - жабдуулар татаал жана жогорку вольттогу түзүлүштөрдү талап кылат.
Мындан тышкары, транспирация ыкмасы менен чачыратуу ыкмасынын айкалышы иондук каптоо болуп саналат.Бул ыкманын артыкчылыктары - пленка менен субстраттын ортосунда күчтүү адгезия, катмардын жогорку ылдамдыгы жана пленканын жогорку тыгыздыгы.
Билдирүү убактысы: 09-09-2022