Рыноктук суроо-талаптын өсүшү менен, чачуу максаттарынын көбүрөөк түрлөрү дайыма жаңыланып турат.Кээ бирлери тааныш, кээ бири кардарларга тааныш эмес.Эми биз сиз менен магнетрон чачыратуу буталарынын кандай түрлөрү бар экенин бөлүшкүбүз келет.
Чачыратуучу максаттын төмөнкү түрлөрү бар: металл чачыратуу каптоо бутасы, эритме чачыратуу каптоо максаттуу, керамикалык чачуу каптоо максаттуу, бориддик керамикалык чачуу максаттуу, карбид керамикалык чачуу максаттуу, фториддик керамикалык чачуу максаттуу, нитриддик керамикалык чачуу максаттуу, оксид керамикалык чачуу максаттуу, , силицид керамикалык чачыратуу максаттуу, сульфиддик керамикалык чачуу максаттуу, теллурид керамикалык чачуу максаттуу, башка керамикалык буталар, хром кошулган кремний кычкылы керамикалык максаттуу (CR SiO), индий фосфиди максаттуу (INP), коргошун арсениди максаттуу (pbas), индий арсениди максаттуу (InAs ).
Магнетронду чачыратуу негизинен эки түргө бөлүнөт: туруктуу токтун чачыратуусу жана RF чачыратуу.DC чачыратуу жабдууларынын принциби жөнөкөй жана металлды чачканда анын ылдамдыгы да тез.RF чачыратуу кеңири колдонулат.Өткөргүч маалыматтарды чачыратуудан тышкары, ал өткөргүч эмес маалыматтарды да чачырата алат.Ошол эле учурда, чачыратуу максаттуу оксиддер, нитриддер жана карбиддер сыяктуу кошулма маалыматтарды даярдоо үчүн реактивдүү чачыранды жүзөгө ашырат.Эгерде RF жыштыгы жогоруласа, ал микротолкундуу плазманын чачырандысына айланат.Учурда электрондук циклотрон-резонанстык (ECR) микротолкундуу плазманы чачыратуу көбүнчө колдонулат.
Посттун убактысы: 18-май-2022