Полисиликон - бул чачыратуу үчүн маанилүү материал.SiO2 жана башка жука пленкаларды даярдоо үчүн магнетрондук чачыратуу ыкмасын колдонуу матрицалык материалды жакшыраак оптикалык, диэлектрик жана коррозияга туруштук бере алат, ал сенсордук экранда, оптикалык жана башка тармактарда кеңири колдонулат.
Узун кристаллдарды куюу процесси куйма мештин ысык талаасында жылыткычтын температурасын жана жылуулук изоляциялоочу материалдын жылуулуктун таралышын так контролдоо аркылуу суюк кремнийдин ылдыйдан өйдө карай багыттуу катуулашын акырындык менен ишке ашыруу болуп саналат. катуу кристаллдардын ылдамдыгы 0,8 ~ 1,2 см / ч болуп саналат.Ошол эле учурда, багыттуу катуулануу процессинде кремний материалдарында металл элементтеринин сегрегациялык эффекти ишке ашырылышы мүмкүн, металл элементтеринин көбү тазаланып, бирдиктүү поликристаллдуу кремний бүртүкчөлөрүнүн структурасы түзүлүшү мүмкүн.
Кремний эритмесиндеги акцептордук аралашмалардын концентрациясын өзгөртүү үчүн, ошондой эле полисиликонду куюу өндүрүш процессинде атайылап аралаштырылышы керек.Өнөр жайдагы р-типтеги полисиликондун негизги кошулмасы кремний бор мастер эритмеси болуп саналат, анда бордун курамы болжол менен 0,025% түзөт.Допингдин өлчөмү кремний пластинкасынын максаттуу каршылыгы менен аныкталат.Оптималдуу каршылык 0,02 ~ 0,05 Ом • см, ал эми тиешелүү бор концентрациясы болжол менен 2 × 1014см-3。 Бирок кремнийдеги бордун бөлүнүү коэффициенти 0,8ге барабар, бул багыттуу катуулануу процессинде белгилүү бир сегрегация эффектин көрсөтөт. болуп саналат, бор элементи куйма вертикалдуу багытында градиент боюнча бөлүштүрүлөт, ал эми каршылык акырындык менен куйма ылдыйдан жогору карай төмөндөйт.
Посттун убактысы: 26-июль-2022